真空裝置有兩種密封條件。一種是密封件將裝有液體介質的容器與外部真空空間隔開。在這種情況下，密封件的主要功能是防止液體介質泄漏到真空空間中。在另一種情況下，密封件將真空內腔與外腔分開，其作用是保持所需的真空度。這種情況比較復雜，因為即使周圍的氣體介質稍微漏進真空室，其真空度也會降低。如果腐蝕性氣體泄漏，真空設備可能會損壞。在許多情況下，真空度和真空空間的清潔度對真空條件下各種工藝過程的質量有決定性的影響。真空設備中使用的頭屯河機械密封的結構沒有什么特別之處。對于上述情況，通常采用氣密性好的金屬波紋管式單端頭屯河機械密封。第二種情況，應采用雙端頭屯河機械密封。如果使用單端密封，必然會出現密封端面無法潤滑的問題。

　　頭屯河機械密封沖洗水壺主要有兩種方式：內部沖洗和外部沖洗。以下是用頭屯河機械密封沖洗水(shui)壺(hu)的共享(xiang)方式：

　　一、內部沖洗

　　1、是沖水

　　(1)特點：主機的密(mi)封(feng)(feng)介(jie)質通過管道從泵的出口端引入密(mi)封(feng)(feng)腔。

　　(2)應(ying)用：對于清洗(xi)液，p1略大(da)于P入口。當溫度(du)高或有雜質(zhi)時，可(ke)在管道上設置冷卻器(qi)和(he)過濾器(qi)。

　　2.反流

　　(1)特點：主機的(de)密(mi)封介質(zhi)從泵的(de)出口端引入密(mi)封腔，沖洗(xi)后(hou)通過(guo)管道流回泵入口。

　　(2)用途(tu)：用于清洗流體，P進(jin)入

　　3.全沖洗

　　(1)特點：利用主機的(de)密(mi)封介質，通過管道從泵的(de)出口端引入密(mi)封腔，沖洗后通過管道流回泵入口。

　　(2)應用：冷卻(que)效果好于前兩者，用于清洗流體，p1接(jie)近P入(ru)P出。

　　二、外部沖洗

　　特(te)點：將外(wai)部(bu)系統中與(yu)密(mi)封(feng)介質相容的清洗液(ye)引入(ru)密(mi)封(feng)腔體進行沖洗。

　　用(yong)途：外部(bu)沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)液的(de)(de)壓(ya)(ya)力應(ying)(ying)比密封介質的(de)(de)壓(ya)(ya)力高0.05-0.1兆帕，適用(yong)于介質為高溫或(huo)固(gu)體顆(ke)粒的(de)(de)場合。沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)液的(de)(de)流量(liang)應(ying)(ying)保證帶走熱量(liang)，滿足(zu)沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)需要，使密封不(bu)受侵(qin)蝕。因(yin)此，需要控制密封腔的(de)(de)壓(ya)(ya)力和沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)的(de)(de)流量(liang)，清洗(xi)(xi)沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)液的(de)(de)流量(liang)一般應(ying)(ying)小于5m/s；含(han)顆(ke)粒的(de)(de)漿液應(ying)(ying)小于3m/s，為達到上述流量(liang)值，沖(chong)(chong)洗(xi)(xi)液與密封室壓(ya)(ya)力之差應(ying)(ying)為