真空裝置有兩種密封條件。一種是密封件將裝有液體介質的容器與外部真空空間隔開。在這種情況下，密封件的主要功能是防止液體介質泄漏到真空空間中。在另一種情況下，密封件將真空內腔與外腔分開，其作用是保持所需的真空度。這種情況比較復雜，因為即使周圍的氣體介質稍微漏進真空室，其真空度也會降低。如果腐蝕性氣體泄漏，真空設備可能會損壞。在許多情況下，真空度和真空空間的清潔度對真空條件下各種工藝過程的質量有決定性的影響。真空設備中使用的五峰機械密封的結構沒有什么特別之處。對于上述情況，通常采用氣密性好的金屬波紋管式單端五峰機械密封。第二種情況，應采用雙端五峰機械密封。如果使用單端密封，必然會出現(xian)密封端面無法潤滑(hua)的問題。

　　五峰機械密封沖洗水壺主要有兩種方式：內部沖洗和外部沖洗。以下是用五峰機械密封沖洗水壺的共享方式：

　　一、內部沖洗

　　1、是沖水

　　(1)特點：主機(ji)的密封介質通過管道從泵的出口端引入(ru)密封腔。

　　(2)應(ying)用(yong)：對于清洗液，p1略(lve)大于P入口。當溫度高或(huo)有雜(za)質(zhi)時，可在管道上設(she)置(zhi)冷卻(que)器和過濾器。

　　2.反流

　　(1)特點：主機的(de)密(mi)封介質(zhi)從泵的(de)出口端引入(ru)密(mi)封腔，沖洗后通(tong)過管道流回泵入(ru)口。

　　(2)用途(tu)：用于清洗流體，P進入

　　3.全沖洗

　　(1)特點：利(li)用主機的密封介質，通(tong)過管(guan)道從泵的出口端(duan)引入密封腔，沖洗(xi)后(hou)通(tong)過管(guan)道流回泵入口。

　　(2)應用：冷(leng)卻效果好于前(qian)兩者，用于清洗流體，p1接近(jin)P入(ru)P出。

　　二、外部沖洗

　　特(te)點：將外(wai)部(bu)系統中與(yu)密封介質相容(rong)的清洗液引入密封腔體進行沖洗。

　　用途：外部沖洗(xi)(xi)(xi)液(ye)的(de)(de)(de)(de)壓(ya)力(li)應(ying)(ying)(ying)比密封介(jie)質(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)壓(ya)力(li)高(gao)0.05-0.1兆(zhao)帕，適用于(yu)介(jie)質(zhi)(zhi)為高(gao)溫或固體顆粒(li)的(de)(de)(de)(de)場(chang)合。沖洗(xi)(xi)(xi)液(ye)的(de)(de)(de)(de)流(liu)(liu)量應(ying)(ying)(ying)保證帶走熱量，滿足沖洗(xi)(xi)(xi)需要，使(shi)密封不受(shou)侵蝕。因此(ci)，需要控制密封腔的(de)(de)(de)(de)壓(ya)力(li)和沖洗(xi)(xi)(xi)的(de)(de)(de)(de)流(liu)(liu)量，清洗(xi)(xi)(xi)沖洗(xi)(xi)(xi)液(ye)的(de)(de)(de)(de)流(liu)(liu)量一(yi)般應(ying)(ying)(ying)小于(yu)5m/s；含顆粒(li)的(de)(de)(de)(de)漿液(ye)應(ying)(ying)(ying)小于(yu)3m/s，為達到上述流(liu)(liu)量值(zhi)，沖洗(xi)(xi)(xi)液(ye)與密封室壓(ya)力(li)之差應(ying)(ying)(ying)為