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發布時間:2021-05-10 16:18:24 人(ren)氣:218195 來源:
鎮平泵用鎮平機械密封的腐(fu)蝕(shi)技術損壞(huai)主要包括:金屬環(huan)腐(fu)蝕(shi)、非金屬環(huan)腐(fu)蝕(shi)、輔(fu)助(zhu)密(mi)封圈及其接觸部位的腐(fu)蝕(shi)。
一、鎮平泵用鎮平機械密封非金屬環侵蝕
1、聚四氟乙烯(F4)密封環的侵(qin)蝕。F4填充如玻璃(li)纖(xian)維、石墨(mo)粉、金屬粉等以(yi)進(jin)步其(qi)耐(nai)溫(wen)性、耐(nai)磨性。填充F4環的侵(qin)蝕次(ci)要(yao)是指填充的抉擇(ze)性侵(qin)蝕、溶(rong)出或蛻(tui)變毀壞。例如在氫氟酸中(zhong),玻璃(li)纖(xian)維分子熱(re)侵(qin)蝕,所(suo)以(yi)填充何物(wu)應視詳(xiang)細狀況(kuang)而定(ding)。
2、石墨環(huan)侵蝕(shi)(shi)。用(yong)樹(shu)(shu)(shu)脂(zhi)浸(jin)漬(zi)的不(bu)透性石墨環(huan),它的侵蝕(shi)(shi)有三(san)個(ge)起因:一是當端(duan)面過熱,溫(wen)度大于180oC時,浸(jin)漬(zi)的樹(shu)(shu)(shu)脂(zhi)要折離石墨環(huan),使環(huan)耐(nai)磨(mo)性降(jiang)落(luo)(luo);二是浸(jin)漬(zi)的樹(shu)(shu)(shu)脂(zhi)若抉擇不(bu)當,就會(hui)在介質中(zhong)產生化學變動,也使耐(nai)磨(mo)性降(jiang)落(luo)(luo);三(san)是樹(shu)(shu)(shu)脂(zhi)浸(jin)漬(zi)深度不(bu)夠,當磨(mo)去浸(jin)漬(zi)層后,耐(nai)磨(mo)性降(jiang)落(luo)(luo)。所以密(mi)封冷卻零碎的建(jian)設,抉擇耐(nai)蝕(shi)(shi)的浸(jin)漬(zi)樹(shu)(shu)(shu)脂(zhi),采用(yong)低壓浸(jin)漬(zi),減少浸(jin)漬(zi)深度是十分必要的。
3、石墨(mo)環的氧(yang)(yang)化。在氧(yang)(yang)化性的介質(zhi)中,端面(mian)在干摩(mo)擦(ca)或冷卻(que)不良時(shi),發生350~40o℃ 的溫度能使石墨(mo)環與氧(yang)(yang)產(chan)生反饋,發生二氧(yang)(yang)化碳氣體,使端面(mian)變毛糙,甚(shen)至決裂(lie)。非金(jin)屬環在化學介質(zhi)和(he)應力的同(tong)時(shi)作用下,也(ye)會決裂(lie)。
二、鎮平泵用鎮平機械密封金屬環侵蝕
1、應(ying)力侵(qin)蝕。金(jin)屬在侵(qin)蝕和拉應(ying)力的(de)同時作用(yong)下,首先在單薄區(qu)發生裂(lie)(lie)痕(hen),進(jin)而向縱深倒退,發生決裂(lie)(lie),稱(cheng)為應(ying)力侵(qin)蝕決裂(lie)(lie),選用(yong)堆(dui)焊(han)硬質合(he)金(jin)及鑄鐵、碳(tan)化鎢、碳(tan)化鈦等密封(feng)環,容易呈現應(ying)力侵(qin)蝕決裂(lie)(lie)。密封(feng)環裂(lie)(lie)紋個別是徑向發散型(xing)的(de),可(ke)以(yi)是一(yi)條或(huo)多條。這些裂(lie)(lie)痕(hen)溝通(tong)了(le)整個密封(feng)端面,減速了(le)端面的(de)磨(mo)損,使透露(lu)量減少。
2、外表侵蝕。假如鎮平泵用鎮平機械密封金屬環外表接觸侵蝕介質,而金屬自身又不耐侵蝕,就會發生外表侵蝕,會招致透露、晚期磨損、毀壞、發聲等。鎮平泵用鎮平機械密封金屬外(wai)表(biao)平均侵(qin)(qin)(qin)蝕有成膜(mo)(mo)和無(wu)(wu)膜(mo)(mo)兩種(zhong)狀態,無(wu)(wu)膜(mo)(mo)的金屬侵(qin)(qin)(qin)蝕很(hen)風險(xian),侵(qin)(qin)(qin)蝕進程以(yi)一定的速度停止,這次要是選材錯誤形(xing)成的。成膜(mo)(mo)的侵(qin)(qin)(qin)蝕,其鈍化(hua)膜(mo)(mo)通常具備愛護(hu)作用的特性,但金屬密封(feng)環所用的資料,如不銹鋼、鈷、鉻合金等其外(wai)表(biao)的鈍化(hua)膜(mo)(mo)在(zai)端面(mian)磨擦中毀壞,在(zai)缺氧條件下(xia)新膜(mo)(mo)很(hen)難生成,使電偶侵(qin)(qin)(qin)蝕加劇(ju)。